Hugendubel.info - Die B2B Online-Buchhandlung 

Merkliste
Die Merkliste ist leer.
Bitte warten - die Druckansicht der Seite wird vorbereitet.
Der Druckdialog öffnet sich, sobald die Seite vollständig geladen wurde.
Sollte die Druckvorschau unvollständig sein, bitte schliessen und "Erneut drucken" wählen.

Hf-Based High-k Dielectrics

E-BookPDF1 - PDF WatermarkE-Book
92 Seiten
Englisch
Springer International Publishingerschienen am01.06.20221. Auflage
Verfügbare Formate
BuchKartoniert, Paperback
EUR29,95
E-BookPDF1 - PDF WatermarkE-Book
EUR28,88

Produkt

Details
Weitere ISBN/GTIN9783031025525
ProduktartE-Book
EinbandartE-Book
FormatPDF
Format Hinweis1 - PDF Watermark
FormatE107
Erscheinungsjahr2022
Erscheinungsdatum01.06.2022
Auflage1. Auflage
ReiheSynthesis Lectures on Solid State Materials and Devices
Seiten92 Seiten
SpracheEnglisch
IllustrationenX, 92 p.
Artikel-Nr.9522661
Rubriken
Genre9200

Inhalt/Kritik

Inhaltsverzeichnis
Introduction.- Hard- and Soft-Breakdown Characteristics of Ultrathin HfO2 Under Dynamic and Constant Voltage Stress.- Impact of High Temperature Forming Gas and D2 Anneal on Reliability of HfO2 Gate Dielectrics.- Effect of Barrier Height and the Nature of Bilayer Structure of HfO2 with Dual Metal Gate Technology.- Bimodal Defect Generation Rate by Low Barrier Height and its Impact on Reliability Characteristics.mehr